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真空鍍膜機的均勻性以及技術含量

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真空鍍膜機厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也是說要實現10A甚至1A的表面平整。

真空鍍膜機在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。

真空鍍膜機晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題,具體見下。

真空鍍膜機操作程序

① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。

② 打開總電源開關,設備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動抽真空機械泵。

⑦ 開復合真空計電源

a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。

b.低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。

⑧ 當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

⑨ 真空鍍膜機開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。

⑩ 低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。

? 等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。

a. 發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。

b. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

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